INFLUENCE OF TORCH POWER AND Ar/C₂H₂ RATIO ON STRUCTURE OF AMORPHOUS CARBON FILMS
L. Marcinauskas^a,b, A. Grigonis^a, V. Valinčius^b, and P. Valatkevičius^b
aPhysics Department, Kaunas University of Technology, Studentų 50, LT-51368 Kaunas, Lithuania
E-mail: liutauras.marcinauskas@ktu.lt
^bPlasma Processing Laboratory, Lithuanian Energy Institute, Breslaujos 3, LT-44403 Kaunas, Lithuania

Received 14 October 2008; revised 29 January 2009; accepted 19 March 2009

The amorphous hydrogenated carbon films (a-C:H) were formed on the stainless steel substrates from an argon–acetylene gas mixture at atmospheric pressure using a direct current plasma torch discharge. The carbon films were deposited using Ar/C₂H₂ gas volume ratios 100:1, 150:1, and 200:1 and plasma torch power of 600 and 870 W. It has been obtained that the increase of the torch power leads to higher film growth rate and increases surface roughness. The growth rate varies from 20 up to 425 nm/s depending on the coating formation conditions. The structure and dominant bonds of the films were investigated by Fourier transform infrared (FTIR) and Raman spectroscopy (RS) measurements. RS results indicated that the sp²/sp³ content in the films depended on the torch power and C₂H₂ amount in argon plasma. It was demonstrated that a diamond-like / graphite-like carbon and glassy carbon films could be deposited by varying the Ar/C₂H₂ ratio and plasma torch power.
Keywords: plasma torch, carbon films, acetylene, structure

IŠLYDŽIO GALIOS IR Ar/C₂H₂ DUJŲ SANTYKIO ĮTAKA AMORFINIŲ ANGLIES DANGŲ STRUKTŪRAI
L. Marcinauskas^a,b, A. Grigonis^a, V. Valinčius^b, P. Valatkevičius^b
aKauno technologijos universitetas, Kaunas, Lietuva
^bLietuvos energetikos institutas, Kaunas, Lietuva

Nagrinėjama amorfnių hidrogenizuotų anglies dangų (a-C:H) sintezė ant plieno padėklų, panaudojant atmosferos slėgio elektrolankinį nusodinimą iš argono–acetileno dujų mišinio plazmos. Imta trys Ar/C₂H₂ dujų santykiai (100, 150 ir 200) ir dvi plazmos generatoriaus galios vertės – 600 ir 870 W. Dangos tirtos skenuojančiuoju elektroniniu mikroskopu, Ramano (RS) ir infraraudonųjų spindulių (IR) spektroskopijos metodais.
Nustatyta, kad didinant plazmos generatoriaus galią ir mažinant Ar/C₂H₂ santykį dangų augimo greitis sparčiai didėja (nuo 20 iki 425 nm/s), tačiau augant nusodinimo greičiui formuojasi koloninės struktūros ir netolygaus mikroreljefo dangos. Matavimai parodė, kad keičiant išlydžio parametrus ir nešančiujų bei darbinių dujų santykį, plazmos srauto temperatūra kinta 570––690 ^$\circ$C ruože. Taigi, keičiant darbines sąlygas keičiasi acetileno disociacijos ir sintezės procesai, padėklą pasiekia nevienodi kiekiai skirtingos prigimties ir energijos radikalų. RS ir IR tyrimai parodė, kad naudotame išlydžio galių ir dujų santykių ruože gautos a-C:H dangos nebuvo vienalytės: jose yra deimanto tipo (sp³) anglies, grafito tipo (sp²) anglies ir stiklo anglies fazės. Argono–acetileno santykio didėjimas lemia sp²sp³ ryšių kitimą dangoje, bet skirtingoms plazmos generatoriaus galioms tai vyksta nevienodai, pavyzdžiui, esant 600 W galiai, sp³ ryšių koncentracija mažėja didinant Ar/C₂H₂ santykį, tuo tarpu esant 870 W sp³ ryšių kiekis išauga mažinant acetileno kiekį plazmoje.