SLOW RELAXATION OF RESISTANCE IN
NANOSTRUCTURED La0.83Sr0.17MnO3 FILMS
INDUCED BY PULSED MAGNETIC FIELDS
D. Pavilonis
a and N. Žurauskienė
a,b
aSemiconductor Physics Institute, Center for Physical
Sciences and Technology, A. Goštauto 11, LT-01108 Vilnius, Lithuania
E-mail: dainius.pavilonis@gmail.com
bVilnius Gediminas Technical University, Naugarduko 41,
LT-03227 Vilnius, Lithuania
Received 18 November 2013; accepted 4 December 2013
The results of colossal
magnetoresistance (MR) relaxation investigations in nanostructured and
epitaxial La-Sr-Mn-O films grown by the MOCVD technique are presented.
The films were studied in
a pulsed magnetic field ranged from 2 to 10 T at the temperature of 80
K.
The slow relaxation of resistance which takes place during milliseconds
when
the magnetic field is switched off is analysed using the
Kohlrausch-Williams-Watts model. It was found that this relaxation is
typical of spin-glass materials and is related with properties of
disordered grain boundaries of nanostructured films. The MR relaxation
of epitaxial films was not observed. The influence of film preparation
conditions on MR relaxation was analysed in order to develop
high pulsed magnetic field sensors exhibiting small dynamic “memory”
effect
and operating at low temperatures.
Keywords:
colossal magnetoresistance, manganites, thin films, resistance
relaxation, spin-glass systems, magnetic field sensors
PACS: 75.47.Gk, 75.47.Lx,
75.50.Lk, 75.60.Lr, 85.75.Ss
LĖTOJI VARŽOS RELAKSACIJA La0,83
Sr0,17MnO3 NANODARINIŲ SLUOKSNIUOSE IMPULSINIUOSE
MAGNETINIUOSE LAUKUOSE
D. Pavilonisa, N. Žurauskienėa,b
aFizinių ir technologijos mokslų centras, Vilnius, Lietuva
bVilniaus Gedimino technikos universitetas, Vilnius,
Lietuva
Nanostruktūrizuotų manganitų La0,83
Sr0,17MnO3 sluoksnių, užaugintų PI MOCVD būdu ir
pasižminčių skirtingu tarpkristalitinės medžiagos defektiškumo
laipsniu, magnetovaržos relaksacija ištirta 80 K temperatūroje
impulsinių magnetinių laukų ruože 2–8
T. Nustatyta, kad pasibaigus magnetinio lauko impulsui, lėtoji varžos
relaksacija
vyksta ms laikų skalėje ir gali būti aprašyta Kohlrausch–Williams–Watts
(KWW)
modeliu, įskaitančiu magnetinių momentų sąveiką netvarkiose
tarpkristalitinėse srityse, būdingą stikliškosioms sistemoms.
Epitaksiniuose sluoksniuose, užaugintuose tokiomis pačiomis sąlygomis,
magnetovaržos relaksacija 250 K temperatūroje, artimoje feromagnetinei
fazei, nebuvo stebėta.
References
/ Nuorodos
[1] C. Israel, M.J. Calderón, and N.D. Mathur, Mater. Today
10, 24 (2007),
http://dx.doi.org/10.1016/S1369-7021(07)70242-0
[2] M. Schneider, O. Liebfried, V. Stankevič, S. Balevičius, and N.
Žurauskienė, IEEE Trans. Magnetics
45,
430 (2009),
http://dx.doi.org/10.1109/TMAG.2008.2008539
[3] O. Liebfried, M. Löffler, M. Schneider, S. Balevičius, V.
Stankevič, N. Žurauskienė, A. Abrutis, and V. Plaušinaitienė, IEEE
Trans. Magnetics
45, 5301
(2009),
http://dx.doi.org/10.1109/TMAG.2009.2024081
[4] S. Balevičius, N. Žurauskienė, V. Stankevič, S. Keršulis, V.
Plaušinaitienė, A. Abrutis, S. Zherlitsyn, T. Herrmannsdörfer, J.
Wosnitza, and F. Wolff-Fabris, Appl. Phys. Lett.
101, 092407 (2012),
http://dx.doi.org/10.1063/1.4749820
[5] H. Xi, K.-Zh. Gao, J. Ouyang, Y. Shi, and Y. Yang, J. Phys.
Condens. Matter
20, 295220-1–8
(2008),
http://dx.doi.org/10.1088/0953-8984/20/29/295220
[6] S. Balevičius, B. Vengalis, F. Anisimovas, J. Novickij, R. Tolutis,
O. Kiprijanovič, V. Pyragas, and E.E. Tornau, J. Magn. Magn. Mater.
211, 243–247 (2000),
http://dx.doi.org/10.1016/S0304-8853(99)00741-6
[7] M. Sirena, L.B. Steren, and J. Guimpel, Phys. Rev. B
64, 104409-1–6 (2001),
http://dx.doi.org/10.1103/PhysRevB.64.104409
[8] N. Kozlova, T. Walter, K. Dörr, D. Eckert, A. Handstein, Yu.
Skourski, K.-H. Müller, and L. Schultz, Physica B
346–347, 74–78 (2004),
http://dx.doi.org/10.1016/j.physb.2004.01.023
[9] M. Ziese, C. Srinitiwarawong, and C. Shearwood, J. Phys. Condens.
Matter
10, L659–L664 (1998),
http://dx.doi.org/10.1088/0953-8984/10/38/002
[10] N. Žurauskienė, S. Balevičius, D. Pavilonis, V. Stankevič, S.
Keršulis, and J. Novickij, IEEE Trans. Plasma Sci.
41, 2830–2835 (2013),
http://dx.doi.org/10.1109/TPS.2013.2261558
[11] J.C. Phillips, Rep. Prog. Phys.
59,
1133–1207 (1996),
http://dx.doi.org/10.1088/0034-4885/59/9/003
[12] J.R. Macdonald and J.C. Phillips, J. Chem. Phys.
122, 074510-1–8 (2005),
http://dx.doi.org/10.1063/1.1850901